定評のあるケースレー4200-SCS型半導体特性評価システムで、パルス生成/測定機能が利用できるようになりました。製品のオンラインプレゼンテーション(英語)では、high-k材料、熱に敏感なデバイス、改良型メモリチップなどの最先端技術の開発者にとって、測定の品質向上により、市場投入までの期間を短縮できるこのパルス発生/測定機能について解説します。

最先端の半導体技術に要求される高度な特性評価に適したパルス発生/測定機能が追加された半導体特性評価システムの詳細をご確認ください。

本製品のオンラインプレゼンテーション(英語)をご覧になるには、こちらをクリックしてください。